OTS修饰活性钛表面及电化学沉积钙磷涂层的研究

来源期刊：稀有金属材料与工程2015年第6期

论文作者：宁成云 廖景文 陈晓峰 于鹏

文章页码：1379 - 1384

关键词：钛;十八烷基三氯硅烷(OTS);自组装;紫外辐射;电化学沉积;

摘    要：通过Piranha溶液（体积比H2SO4:H2O2=7:3）处理在医用钛表面形成纳米网状结构的氧化层。利用自组装技术在材料表面接枝十八烷基三氯硅烷（OTS）膜,对OTS膜层进行紫外光照,探讨材料亲疏水表面对电化学沉积钙磷涂层的影响。通过傅里叶变换红外谱仪（FTIR）、接触角测定仪、X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电镜（FE-SEM）对OTS膜和钙磷涂层进行了表征和探讨。结果表明活性钛表面OTS的水接触角（109.8±2.1）°经UV辐照后降低到（63.4±1.8）°,其表面能由37.50 m J·m-2增加到45.18 m J·m-2。通过电化学方法使钙磷沉积在活性钛、不同的Ti-OTS亲疏水表面。研究结果表明经UV辐照120 min后的Ti-OTS表面钙磷涂层更均匀有序,有望能提高植入材料的稳定性。