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MgO/Si3N4复合材料表面致密层的形成机理

来源期刊:工程科学学报2004年第4期

论文作者:王林俊 孙加林 洪彦若

文章页码:400 - 403

关键词:氧化镁-氮化硅;复合材料;耐火材料;致密层;自阻碍氧化性能;转换氧分压;

摘    要:研究发现Mgo/si3N4复合材料具有自阻碍氧化的性能,氧化时其表面能自发生成一层阻碍进一步氧化和提高抗侵蚀的致密层,添加Al,Si可以加厚、加宽致密层.在此基础上,研究了无添加剂和添加Al,Si的致密层的形成机理、组成和结构.提出转换氧分压为衡量气态氧化物SiO和Al2O的逸出标准,并确定气态的SiO或Al2O可以在氧化层内部生成以及由于它们在表面的再氧化和反应使表层内形成了致密层的机理.

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MgO/Si3N4复合材料表面致密层的形成机理

王林俊,孙加林,洪彦若

摘 要:研究发现Mgo/si3N4复合材料具有自阻碍氧化的性能,氧化时其表面能自发生成一层阻碍进一步氧化和提高抗侵蚀的致密层,添加Al,Si可以加厚、加宽致密层.在此基础上,研究了无添加剂和添加Al,Si的致密层的形成机理、组成和结构.提出转换氧分压为衡量气态氧化物SiO和Al2O的逸出标准,并确定气态的SiO或Al2O可以在氧化层内部生成以及由于它们在表面的再氧化和反应使表层内形成了致密层的机理.

关键词:氧化镁-氮化硅;复合材料;耐火材料;致密层;自阻碍氧化性能;转换氧分压;

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