硬质合金基体上金刚石膜的XRD研究
来源期刊：硬质合金2000年第4期
论文作者：匡同春 成晓玲 钟万里 余忠民 叶兰莹
关键词：金刚石膜; 微观结构; 残余应力; 粘附性能; diamond film; microstructure; residual stress; adhesive property;
摘 要：采用直流等离子体射流CVD法在硬质合金(WC+8wt.%Co)基体上生长金刚石膜，主要借助XRD分析方法对CVD金刚石膜的微观结构和残余应力进行了研究，探讨了CVD金刚石膜中残余应力的形成及其对金刚石膜粘附性能的影响。研究结果表明：CVD金刚石膜中通常存在GPa数量级的残余压应力，膜中存在适中的残余压应力，有利于CVD金刚石膜获得最佳的粘附性能。
匡同春1，成晓玲1，钟万里2，余忠民1，叶兰莹1
(1.广东工业大学，广州市510090;
2.广东省电力工业试验研究所，广州，510606)
摘要:采用直流等离子体射流CVD法在硬质合金(WC+8wt.%Co)基体上生长金刚石膜，主要借助XRD分析方法对CVD金刚石膜的微观结构和残余应力进行了研究，探讨了CVD金刚石膜中残余应力的形成及其对金刚石膜粘附性能的影响。研究结果表明：CVD金刚石膜中通常存在GPa数量级的残余压应力，膜中存在适中的残余压应力，有利于CVD金刚石膜获得最佳的粘附性能。
关键词:金刚石膜; 微观结构; 残余应力; 粘附性能; diamond film; microstructure; residual stress; adhesive property;
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