镀液pH值对电沉积Ni-W合金镀层结构及其耐蚀性能的影响

周琼宇^1,2，王小芬¹，钟庆东²，王操¹，胡一峰¹

1. 江西理工大学材料科学与工程学院2. 上海大学上海市现代冶金与材料制备重点实验室

摘 要：采用直流电沉积的方法在低碳钢表面制备了一层Ni-W合金镀层,研究了pH值对电沉积Ni-W合金镀层结构及其耐蚀性能的影响。结果表明:在硫酸盐-柠檬酸镀液体系中可直接沉积一层均匀致密的Ni-W合金层,pH值小于7的镀液沉积得到纳米晶结构的Ni-W镀层;pH值大于7时,镀层为非晶态结构。Ni-W合金层的硬度主要由镀层中W含量所决定,镀液pH值为5.5时所沉积的Ni-W镀层中W含量最高,镀层的硬度最高（753 HV）;在3.5%（质量分数）NaCl溶液中,Ni-W合金层均表现出比低碳钢更低的电化学活性,对基体具有良好的保护作用。在所有的Ni-W合金镀层样品中,非晶态镀层由于表面易发生钝化而具有更加优异的耐蚀性能,其中镀液pH值为7.5时所沉积的镀层具有最优的耐蚀性能。

关键词：Ni-W合金;镀层;电沉积;耐蚀性;钝化;电化学阻抗;