简介概要

四种药物中席夫碱基团在玻碳电极上的电化学行为

来源期刊:分析试验室2011年第7期

论文作者:朱延松 高红梅 辛广

文章页码:111 - 114

关键词:席夫碱;玻碳电极;药物;氧化还原;

摘    要:选择呋喃妥因、盐酸二甲双胍、西咪替丁和醋甲唑胺4种含有席夫碱基团的常见药物,运用电化学循环伏安法对其中的-C=N-基团在玻碳电极上的电化学氧化还原行为进行了研究。呋喃妥因、盐酸二甲双胍和西咪替丁中的席夫碱基团(-CH=N-)在玻碳电极上能够被还原,而且是一个电化学的不可逆过程,其还原电位分别为-0.864V,-1.364V,-0.812V;醋甲唑胺中的席夫碱基团(-CH=N-)在玻碳电极上很难被还原;而取代基团是导致这4种药物中席夫碱基团(-CH=N-)在玻碳电极上电化学还原差异的主要原因。

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四种药物中席夫碱基团在玻碳电极上的电化学行为

朱延松,高红梅,辛广

鞍山师范学院化学系

摘 要:选择呋喃妥因、盐酸二甲双胍、西咪替丁和醋甲唑胺4种含有席夫碱基团的常见药物,运用电化学循环伏安法对其中的-C=N-基团在玻碳电极上的电化学氧化还原行为进行了研究。呋喃妥因、盐酸二甲双胍和西咪替丁中的席夫碱基团(-CH=N-)在玻碳电极上能够被还原,而且是一个电化学的不可逆过程,其还原电位分别为-0.864V,-1.364V,-0.812V;醋甲唑胺中的席夫碱基团(-CH=N-)在玻碳电极上很难被还原;而取代基团是导致这4种药物中席夫碱基团(-CH=N-)在玻碳电极上电化学还原差异的主要原因。

关键词:席夫碱;玻碳电极;药物;氧化还原;

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