立方氮化硼薄膜表面的XPS研究
来源期刊：功能材料2004年增刊第1期
论文作者：宋雪梅 邓金祥 刘钧锴 朱秀红 陈浩 严辉 陈光华 王波
关键词：立方氮化硼薄膜; 表面; X射线光电子能谱;
摘 要：研究立方氮化硼薄膜表面的性质对于研究立方氮化硼薄膜的成核机理和应用,具有重要的价值.本文用XPS对立方氮化硼薄膜表面进行研究,并对有关问题进行了讨论.XPS分析表明,立方氮化硼薄膜表面除了B、N外,还含有C和O.从XPS谱图计算得到含有立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.90,较接近于氮化硼的理想化学配比1:1;不含立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.86,离氮化硼的理想化学配比1:1较远.计算表明立方氮化硼薄膜的顶层六角相的厚度约为0.8nm.
宋雪梅1，邓金祥2，刘钧锴1，朱秀红1，陈浩2，严辉1，陈光华1，王波1
(1.北京工业大学,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022;
2.北京工业大学,应用数理学院,北京,100022)
摘要:研究立方氮化硼薄膜表面的性质对于研究立方氮化硼薄膜的成核机理和应用,具有重要的价值.本文用XPS对立方氮化硼薄膜表面进行研究,并对有关问题进行了讨论.XPS分析表明,立方氮化硼薄膜表面除了B、N外,还含有C和O.从XPS谱图计算得到含有立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.90,较接近于氮化硼的理想化学配比1:1;不含立方相的氮化硼薄膜的N/B为0.86,离氮化硼的理想化学配比1:1较远.计算表明立方氮化硼薄膜的顶层六角相的厚度约为0.8nm.
关键词:立方氮化硼薄膜; 表面; X射线光电子能谱;
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