在石墨基体上电沉积TiB2镀层的研究
来源期刊：稀有金属材料与工程2004年第7期
论文作者：李军 李冰 邱竹贤 叶以富 赵祖欣
关键词：石墨; 电沉积; TiB2; 镀层;
摘 要：采用K2TiF-6-KBF4-KF-KCl融盐体系在石墨基体上电沉积制备TiB2镀层.考察了预电解条件和电活性组分的含量对镀层性能的影响.实验结果表明:预电解对镀层的组成影响较大;在K2TiF6与KBF4的摩尔比为1∶2.5,并且其总含量较高的条件下,镀层与基体结合力好,重复性好,但是晶粒较大,含有少量杂质;在K2TiF6与KBF4的摩尔比为1∶7.5,并且其总含量较低的条件下,得到的镀层晶粒细小,有金属光泽,TiB2的纯度很高,但是重复性较差.需要进一步进行电化学实验,明确电沉积的机理.
李军1，李冰1，邱竹贤2，叶以富1，赵祖欣1
(1.华东理工大学,上海,200237;
2.东北大学,辽宁,沈阳,110003)
摘要:采用K2TiF-6-KBF4-KF-KCl融盐体系在石墨基体上电沉积制备TiB2镀层.考察了预电解条件和电活性组分的含量对镀层性能的影响.实验结果表明:预电解对镀层的组成影响较大;在K2TiF6与KBF4的摩尔比为1∶2.5,并且其总含量较高的条件下,镀层与基体结合力好,重复性好,但是晶粒较大,含有少量杂质;在K2TiF6与KBF4的摩尔比为1∶7.5,并且其总含量较低的条件下,得到的镀层晶粒细小,有金属光泽,TiB2的纯度很高,但是重复性较差.需要进一步进行电化学实验,明确电沉积的机理.
关键词:石墨; 电沉积; TiB2; 镀层;
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