硅对熔盐电解制备镨钕合金的影响

来源期刊：中国钨业2012年第2期

论文作者：周爱国 陈焱鑫 彭少华 王俊

文章页码：44 - 46

关键词：镨钕合金;稀土;10kA电解槽;硅;二氧化硅;

摘    要：分析了在10 kA电解槽电解生产Pr-Nd合金过程中,SiO2对合金含Si量、电流效率以及炉况的影响。结果表明,电解质中过量的SiO2导致产品中Si含量≥0.05%,电流效率最低下降至57.4%。通过热力学计算得出在1 300 K时,SiO2与C生成CO反应的理论分解电压为0.767 V,远低于Pr2O3、Nd2O3与C生成CO反应的1.368 V和1.310 V。因此当原料中SiO2含量过高时,应采取低温电解、减少电解质补加量、多捞渣等措施。