单晶硅表面沉积Ni-Co-P镀层的显微结构和性能

来源期刊：稀有金属材料与工程2014年第3期

论文作者：张含卓 钟耀东 许程

文章页码：722 - 726

关键词：Ni-Co-P合金;化学镀;显微结构;腐蚀行为;电磁性能;

摘    要：采用化学镀工艺在p型（100）单晶硅表面制备了2种Ni-Co-P镀层,对比分析其显微结构和性能。结果表明:Ni48Co46P6镀层为非晶和纳米晶混合结构,表面均匀分布着直径0.2³.5μm的球状团簇。而Ni22Co74P4镀层为单相密排六方结构,含有强烈的（0002）晶面择优取向,表面由纳米级梭状团簇和微米级苞状团簇混合而成。在3.5%NaCl溶液中,2种镀层均表现出活化-钝化-过钝化的腐蚀行为,其中Ni48Co46P6镀层的耐蚀性能较好。而在1.0%H2SO4溶液中,2种镀层的耐蚀性能均大幅下降。与Ni48Co46P6镀层相比,Ni22Co74P4镀层的室温电阻率略有降低,饱和磁化强度和矫顽力显著升高。