氧分压对氧化镍薄膜表面形貌和光电性能的影响
来源期刊：功能材料2008年第8期
论文作者：盛英卓 刘化然 冯博学 黄鹏 李金荣 杨伟峰 宋宇
关键词：NiOx; 射频溅射; 电致变色; 氧分压;
摘 要：采用射频溅射法在SnO2衬底上生长了NiOx薄膜,制备的薄膜是非理想化学计量的微晶薄膜.研究了氧分压对NiOx薄膜的溅射速率、表面形貌和光学电学特性的影响.研究结果显示,O2分压在1∶10时,可得到最快的沉积速率;低的氧分压沉积的薄膜表面比较疏松;随着氧含量的增加,方块电阻呈上升趋势,当氧分压达到一定值时,膜电阻又开始下降;随着氧分压的升高,颜色会逐渐加深,透射率降低.
盛英卓1，刘化然1，冯博学1，黄鹏1，李金荣1，杨伟峰1，宋宇1
(1.兰州大学,磁学与磁性材料教育部重点实验室,甘肃,兰州,730000)
摘要:采用射频溅射法在SnO2衬底上生长了NiOx薄膜,制备的薄膜是非理想化学计量的微晶薄膜.研究了氧分压对NiOx薄膜的溅射速率、表面形貌和光学电学特性的影响.研究结果显示,O2分压在1∶10时,可得到最快的沉积速率;低的氧分压沉积的薄膜表面比较疏松;随着氧含量的增加,方块电阻呈上升趋势,当氧分压达到一定值时,膜电阻又开始下降;随着氧分压的升高,颜色会逐渐加深,透射率降低.
关键词:NiOx; 射频溅射; 电致变色; 氧分压;
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