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ZrB2-Si3N4高温复相陶瓷的制备及抗氧化机理研究

来源期刊:材料导报2010年第S2期

论文作者:宋杰光 李世斌 纪岗昌 李伟 徐斌 张小强

文章页码:519 - 1049

关键词:二硼化锆;氮化硅;复相陶瓷;真空热压烧结;氧化机理;

摘    要:由于ZrB2具有极高的熔点、强度、硬度和导电率等许多优异性能,因而其应用领域非常广泛。研究了ZrB2-Si3N4复相陶瓷的制备和高温下的氧化机理。结果表明,在1700℃、15MPa、2h烧结条件下制备的ZrB2-20%Si3N4复相陶瓷的致密度为98%左右。ZrB2-Si3N4复相陶瓷在高温氧化时生成了SiO2,并且SiO2液相容易在复相陶瓷表面富集形成一层保护膜,有望提高陶瓷在更高氧化温度下的抗氧化性能。

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ZrB2-Si3N4高温复相陶瓷的制备及抗氧化机理研究

宋杰光1,2,李世斌1,2,纪岗昌2,李伟1,徐斌1,张小强1

1. 九江学院机械与材料工程学院2. 九江学院九江市绿色再制造重点实验室

摘 要:由于ZrB2具有极高的熔点、强度、硬度和导电率等许多优异性能,因而其应用领域非常广泛。研究了ZrB2-Si3N4复相陶瓷的制备和高温下的氧化机理。结果表明,在1700℃、15MPa、2h烧结条件下制备的ZrB2-20%Si3N4复相陶瓷的致密度为98%左右。ZrB2-Si3N4复相陶瓷在高温氧化时生成了SiO2,并且SiO2液相容易在复相陶瓷表面富集形成一层保护膜,有望提高陶瓷在更高氧化温度下的抗氧化性能。

关键词:二硼化锆;氮化硅;复相陶瓷;真空热压烧结;氧化机理;

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