溅射Ar流量对Mn膜光学常数的影响
来源期刊：材料导报2014年第6期
论文作者：邵飞 张晋敏 唐华杰 胡维前 谢泉 卢顺顺 贺晓金
文章页码：101 - 103
关键词：磁控溅射;锰薄膜;Ar流量;光学常数;
摘 要：采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,在能量2.0~4.0eV范围内测量了磁控溅射法制备的金属Mn膜的光学常数,分析了氩气流量对Mn膜光学性质的影响。结果表明,在低能区,随Ar流量的增加,薄膜的所有光学常数均有不同程度的降低;而在高能区,流量对光学常数的影响不明显。薄膜复介电常数、折射率n随流量增大不断减小,在流量为15mL/min后变化不明显;而消光系数k在流量为15~20mL/min没有明显变化,在流量达到25mL/min后消光系数显著减小。
邵飞1,2，张晋敏1,2，唐华杰1,2，胡维前1,2，谢泉1,2，卢顺顺1,2，贺晓金1,2
1. 贵州大学电子信息学院2. 贵州大学新型光电子材料与技术研究所
摘 要：采用可变入射角全自动椭圆偏振光谱仪,在能量2.0~4.0eV范围内测量了磁控溅射法制备的金属Mn膜的光学常数,分析了氩气流量对Mn膜光学性质的影响。结果表明,在低能区,随Ar流量的增加,薄膜的所有光学常数均有不同程度的降低;而在高能区,流量对光学常数的影响不明显。薄膜复介电常数、折射率n随流量增大不断减小,在流量为15mL/min后变化不明显;而消光系数k在流量为15~20mL/min没有明显变化,在流量达到25mL/min后消光系数显著减小。
关键词：磁控溅射;锰薄膜;Ar流量;光学常数;
