分布反馈量子级联激光器的光栅制备
来源期刊：功能材料与器件学报2009年第5期
论文作者：魏林 张永刚 李耀耀 李爱珍 徐刚毅
关键词：分布反馈激光器; 全息曝光; 光栅制备; distributed feedback lasers; holographic lithography; fabrication of gratings;
摘 要：利用全息曝光方法制备了分布反馈量子级联激光器的光栅掩模,选择和发展了恰当的用于InGaAs/InP材料的光栅腐蚀优化工艺,得到腐蚀规律,讨论了腐蚀机制.在量子级联激光器的In-GaAs/InP层上制备光栅得到分布反馈量子级联激光器,其单模特性较好,信噪比大于30dB.
魏林1，张永刚1，李耀耀2，李爱珍1，徐刚毅1
(1.中国科学院上海微系统与信息技术研究所,信息功能材料国家重点实验室,上海市,200050;
2.中国科学院研究生院)
摘要:利用全息曝光方法制备了分布反馈量子级联激光器的光栅掩模,选择和发展了恰当的用于InGaAs/InP材料的光栅腐蚀优化工艺,得到腐蚀规律,讨论了腐蚀机制.在量子级联激光器的In-GaAs/InP层上制备光栅得到分布反馈量子级联激光器,其单模特性较好,信噪比大于30dB.
关键词:分布反馈激光器; 全息曝光; 光栅制备; distributed feedback lasers; holographic lithography; fabrication of gratings;
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