夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜巨磁阻抗效应研究
来源期刊：功能材料2006年第2期
论文作者：商干兵 周勇 曹莹 余先育 周志敏 丁文
关键词：巨磁阻抗效应; 夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜; MEMS技术;
摘 要：采用MEMS技术在玻璃基片上制备了夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜,并在1～40MHz范围内研究了它的巨磁阻抗效应.纵向巨磁阻抗效应先随着外加磁场的增大而迅速增加,在某一磁场下达到最大值后随磁场的增加而逐渐减小.在频率为5MHz时,Hext为0.8kA/m时巨磁阻抗效应最大值达到32.06%.另外,夹心结构多层膜表现出较大的负巨磁阻抗效应,在频率5MHz,Hext=9.6kA/m时,负最大巨磁阻抗效应可达-24.50%.
商干兵1，周勇1，曹莹1，余先育1，周志敏1，丁文1
(1.上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家级重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030)
摘要:采用MEMS技术在玻璃基片上制备了夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜,并在1～40MHz范围内研究了它的巨磁阻抗效应.纵向巨磁阻抗效应先随着外加磁场的增大而迅速增加,在某一磁场下达到最大值后随磁场的增加而逐渐减小.在频率为5MHz时,Hext为0.8kA/m时巨磁阻抗效应最大值达到32.06%.另外,夹心结构多层膜表现出较大的负巨磁阻抗效应,在频率5MHz,Hext=9.6kA/m时,负最大巨磁阻抗效应可达-24.50%.
关键词:巨磁阻抗效应; 夹心结构FeNi/Cu/FeNi多层膜; MEMS技术;
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