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艺参数对 a-CNx膜沉积的影响

来源期刊：无机材料学报2000年第1期

论文作者：胡行方田静芬宋力昕江伟辉肖兴成

关键词：a-CNx膜; 工艺参数; 沉积;

摘要：研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳(a-CNx)薄膜沉积的影响. 实验结果表明: N2流量的增加提高了膜的沉积速率,同时提高了膜中氮含量. 溅射功率的提高增加了沉积速率. 偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数,它不仅使薄膜致密、表面光滑,而且还可以提高膜中的N含量.

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胡行方¹，田静芬¹，宋力昕¹，江伟辉¹，肖兴成¹

(1.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050)

摘要:研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳(a-CNx)薄膜沉积的影响. 实验结果表明: N2流量的增加提高了膜的沉积速率,同时提高了膜中氮含量. 溅射功率的提高增加了沉积速率. 偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数,它不仅使薄膜致密、表面光滑,而且还可以提高膜中的N含量.

关键词:a-CNx膜; 工艺参数; 沉积;

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