退火气氛对SnO2薄膜结构与成分的影响

杜军¹，王磊¹，毛昌辉¹

(1.北京有色金属研究总院先进电子材料研究所,北京,100088)

摘要:研究了低氧分压反应溅射法生长的SnO2薄膜于600℃ O2气氛和Ar气氛退火处理后的表面形貌、晶体结构以及表面成分,发现经氧化性气氛退火处理的SnO2为具有金红石结构的表面多孔薄膜.相比较而言,Ar气氛退火处理后的SnO2薄膜表面较为致密,相结构包含朱氧化完全的β-Sn.XPS分析进一步表明,氧化性气氛退火形成单一组分的SnO2,而惰性气氛退火后薄膜表面含有Sn、SnO和SnO2.另外,研究还发现薄膜表面吸附氧形态与退火气氛有关.

关键词:二氧化锡; 薄膜; 反应磁控溅射; 退火气氛; tin dioxide; thin film; reactive magnetron sputtering; annealing atmospheres;

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