调制周期对Ti-TiN多层薄膜光学和电学性能的影响研究
来源期刊：昆明理工大学学报(自然科学版)2010年第4期
论文作者：胡敏 刘莹
文章页码：36 - 39
关键词：磁控溅射;Ti/TiN薄膜;调制结构;反射率;方块电阻;
摘 要：采用反应直流磁控溅射法,在Si(111)基底上制备一系列不同结构的Ti/TiN多层薄膜.研究了溅射沉积过程中调制结构对周期薄膜光电性能的影响.研究结果表明:电阻率随着周期层数的增大而减小;周期层数增加时薄膜近红外反射率增大;当调制周期为25 nm时,薄膜方块电阻最小,同时薄膜红外反射率最大;修正了红外反射率RIR近似计算公式的系数.
胡敏，刘莹
南昌大学机电工程学院
摘 要：采用反应直流磁控溅射法,在Si(111)基底上制备一系列不同结构的Ti/TiN多层薄膜.研究了溅射沉积过程中调制结构对周期薄膜光电性能的影响.研究结果表明:电阻率随着周期层数的增大而减小;周期层数增加时薄膜近红外反射率增大;当调制周期为25 nm时,薄膜方块电阻最小,同时薄膜红外反射率最大;修正了红外反射率RIR近似计算公式的系数.
关键词：磁控溅射;Ti/TiN薄膜;调制结构;反射率;方块电阻;
