掠射角溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜

来源期刊：无机材料学报2018年第12期

论文作者：王美涵 温佳星 陈昀 雷浩

文章页码：1303 - 1308

关键词：氧化钨薄膜;纳米结构;掠射角;磁控溅射;

摘    要：采用掠射角反应磁控溅射法在室温下沉积了纳米结构氧化钨（WO3）薄膜,并对薄膜进行热处理。利用场发射扫描电镜（FE-SEM）和X射线衍射仪（XRD）对氧化钨薄膜的形貌和结构进行了表征。当掠射角度为80?时,采用直流电源沉积的氧化钨薄膜具有纳米斜柱状结构,而采用脉冲直流电源沉积的薄膜呈现纳米孔结构。纳米薄膜经450℃热处理3 h后,纳米斜柱彼此连接,失去规整结构,而纳米孔结构的孔尺寸变大。XRD分析表明室温沉积的氧化钨薄膜具有无定形结构,经450℃热处理1h后,转变为单斜晶相。具有纳米斜柱状或纳米孔结构氧化钨薄膜的光学调制幅度在波长600 nm时达到60%,且电致变色性能可逆。