聚苯胺修饰电极制备过程中几个问题的探讨
来源期刊：分析试验室1994年第3期
论文作者：李根喜 方惠群 陈洪渊
关键词：聚苯胺;化学修饰电极;电化学聚合;循环伏安法;恒电流法;恒电位法;
摘 要：报道聚苯胺修饰电极制备中尚须引起人们重视的几个问题。主要包括：循环伏安法扫描电位上限对聚合的影响，恒电位法最佳的聚合电位，以及仅具２００ｍＶ和９００ｍＶ两峰聚苯胺膜的制备，聚合电量对不同制备方法影响的差异性等等。并对制备聚苯胺修饰电极的几种方法进行了比较，从而指出了最佳的聚合方法和条件。
李根喜，方惠群，陈洪渊
摘 要：报道聚苯胺修饰电极制备中尚须引起人们重视的几个问题。主要包括：循环伏安法扫描电位上限对聚合的影响，恒电位法最佳的聚合电位，以及仅具２００ｍＶ和９００ｍＶ两峰聚苯胺膜的制备，聚合电量对不同制备方法影响的差异性等等。并对制备聚苯胺修饰电极的几种方法进行了比较，从而指出了最佳的聚合方法和条件。
关键词：聚苯胺;化学修饰电极;电化学聚合;循环伏安法;恒电流法;恒电位法;
