TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能
来源期刊：材料科学与工程学报2007年第4期
论文作者：吕凤军 斯永敏
关键词：磁控溅射; TbDyFe/FeNi多层膜; 真空退火;
摘 要：本文采用磁控溅射工艺制备了TbDyFe/FeNi多层膜,研究了TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能及其影响因素.研究表明,随着FeNi膜层以及TbDyFe膜层厚度的减少,多层膜磁致伸缩性能增强,线性变化能力增强;通过真空退火、外加磁场镀膜和外加应力镀膜能够有效地提高TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能.
吕凤军1，斯永敏2
(1.北京航空工程技术研究中心,北京,100076;
2.国防科技大学航天与材料工程学院,湖南,长沙,410073)
摘要:本文采用磁控溅射工艺制备了TbDyFe/FeNi多层膜,研究了TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能及其影响因素.研究表明,随着FeNi膜层以及TbDyFe膜层厚度的减少,多层膜磁致伸缩性能增强,线性变化能力增强;通过真空退火、外加磁场镀膜和外加应力镀膜能够有效地提高TbDyFe/FeNi多层膜的磁致伸缩性能.
关键词:磁控溅射; TbDyFe/FeNi多层膜; 真空退火;
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