工艺参数对脉冲电沉积Ni-TiN纳米镀层微观组织和性能的影响

来源期刊：材料导报2018年第14期

论文作者：夏法锋 杨安娜 马春阳

文章页码：2448 - 2451

关键词：工艺参数;Ni-TiN纳米镀层;微观组织;耐磨性能;

摘    要：电沉积技术是一种方便、高效、低成本制备金属基纳米镀层的方法,其工艺参数直接决定金属基纳米镀层的微观组织及性能。为系统研究电沉积工艺参数对金属基纳米镀层表面形貌、显微组织、力学性能及耐磨损性能的影响规律,本实验采用脉冲电沉积制得Ni-TiN纳米镀层,并利用透射电镜（TEM）、原子力显微镜（AFM）、X射线衍射仪（XRD）、摩擦磨损试验机研究了工艺参数对Ni-TiN纳米镀层的显微结构、显微硬度和性能的影响。结果表明,当电流密度为4A/dm²时,Ni-TiN纳米镀层的显微硬度为984.7HV,TiN微粒复合量为8.69%（质量分数）。采用不同脉冲频率制得的Ni-TiN纳米镀层,其晶面原子呈现不同方向的面心立方晶格结构。当脉冲频率为200Hz时,Ni-TiN纳米镀层中Ni和TiN的平均粒径分别为87.2nm和34.6nm。当脉冲占空比为20%时,Ni-TiN纳米镀层的显微硬度为980HV,其平均磨损量为7.56mg/mm2。