超低压等离子喷涂YSZ涂层显微组织结构研究

来源期刊：热喷涂技术2014年第3期

论文作者：杨震晓 倪立勇 戚鹏 马康智 杨杰 吴朝军

文章页码：24 - 28

关键词：超低压等离子喷涂;柱状晶结构;YSZ涂层;

摘    要：采用超低压等离子喷涂技术（Plasma Spray-Physical Vapor Deposition,PS-PVD）制备了YSZ涂层,对涂层的显微组织结构进行了分析,并对比了粘结层表面不同预处理对于YSZ涂层生长趋势的影响规律。研究结果表明:MCrAlY涂层致密,孔隙率为1.5%,结合强度达83.2MPa;YSZ涂层呈现明显的柱状晶结构。粘结层表面粗糙度对柱状晶生长方向影响较大,表面粗糙度越小,柱状晶生长方向越趋于一致,基本沿法向生长。在超低压状态下,涂层不存在"遮蔽效应",可实现异型面涂层制备。