化学镀NiP原子沉积过程二维计算机模拟
来源期刊：机械工程材料2002年第10期
论文作者：王志文 刘鹏虎 关凯书 尹衍升
关键词：计算机模拟; 化学镀镍磷合金; Monte-Carlo方法;
摘 要：建立了非晶态化学镀NiP原子沉积过程计算机模拟模型,用Monte Carlo方法对原子沉积过程进行了二维(2D)计算机模拟.结果表明,吸附原子的迁移概率及最大迁移距离S对镀层的显微孔隙有显著的影响.随着吸附原子迁移概率的增加(k减小)及最大迁移距离S的增大,吸附原子有更大的概率迁移到配位数较多的位置处沉积,即原子填充空穴及孔隙的机会多,镀层孔隙率低.
王志文1，刘鹏虎2，关凯书3，尹衍升3
(1.华东理工大学化工机械研究所,上海,200237;
2.辽宁工程技术大学材料工程系,辽宁,抚顺,123000;
3.山东大学材料液态结构及遗传教育部重点实验室,工程陶瓷省重点实验室,山东,济南,250061)
摘要:建立了非晶态化学镀NiP原子沉积过程计算机模拟模型,用Monte Carlo方法对原子沉积过程进行了二维(2D)计算机模拟.结果表明,吸附原子的迁移概率及最大迁移距离S对镀层的显微孔隙有显著的影响.随着吸附原子迁移概率的增加(k减小)及最大迁移距离S的增大,吸附原子有更大的概率迁移到配位数较多的位置处沉积,即原子填充空穴及孔隙的机会多,镀层孔隙率低.
关键词:计算机模拟; 化学镀镍磷合金; Monte-Carlo方法;
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