氩等离子体处理对ZnO薄膜阻变效应的影响
来源期刊：材料科学与工程学报2014年第6期
论文作者：伏兵 诸葛飞 刘志敏 罗浩 梁凌燕 高俊华 曹鸿涛
文章页码：922 - 924
关键词：阻变;ZnO薄膜;氩等离子体处理;
摘 要：本文研究了氩等离子体处理对ZnO薄膜阻变效应的影响,发现等离子体处理可以使薄膜表面平整,并且增加薄膜中的缺陷浓度。以等离子体处理后的ZnO薄膜作为介质层,在Pt/ZnO/Pt三明治结构中观察到无电形成过程的阻变效应。本文研究表明,氩等离子体处理是消除氧化物阻变效应电形成过程的有效手段。
伏兵，诸葛飞，刘志敏，罗浩，梁凌燕，高俊华，曹鸿涛
中国科学院宁波材料技术与工程研究所
摘 要：本文研究了氩等离子体处理对ZnO薄膜阻变效应的影响,发现等离子体处理可以使薄膜表面平整,并且增加薄膜中的缺陷浓度。以等离子体处理后的ZnO薄膜作为介质层,在Pt/ZnO/Pt三明治结构中观察到无电形成过程的阻变效应。本文研究表明,氩等离子体处理是消除氧化物阻变效应电形成过程的有效手段。
关键词：阻变;ZnO薄膜;氩等离子体处理;
