γ-甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷与n-HA的界面作用研究

王学江¹，吴曦¹，韩纪梅¹，许凤兰¹，莫利蓉¹，李玉宝¹，吴兰¹

(1.四川大学,纳米生物材料研究中心,四川大学分析测试中心,四川,成都,610064;
2.四川大学,材料科学与工程学院,四川,成都,610064)

摘要:用傅立叶-红外光谱(FT-IR)、激光拉曼光谱(Raman)和X光电子能谱(XPS)等技术研究了纳米羟基磷灰石(n-HA)与γ-甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷(KH-570)偶联剂的界面作用.结果表明,用硅烷处理后的n-HA表面的羟基(-OH)出现较大变化,说明-OH是与KH-570相互作用的主要基团,CO键的伸缩振动新峰及Si峰的出现,说明硅烷已成功接枝在HA晶体表面.n-HA晶体与有机硅烷之间的界面结合相互作用主要包括氢键和化学键,但也存在羰基与钙离子之间产生静电荷吸引的可能.用此改性的n-HA与高分子或牙科树脂复合可大大改善n-HA与复合材料的力学性能,并发挥n-HA的生物功能效应.

关键词:纳米羟基磷灰石; γ-甲基丙烯酸丙酯基三甲氧基硅烷; 界面作用;

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