溅射气压和沉积时间对c-BN薄膜结构的影响
来源期刊:功能材料2002年第1期
论文作者:宋雪梅 王玫 邹云娟 张德学 严辉 黄安平 王波
关键词:立方氮化硼; 薄膜; 红外光谱;
摘 要:采用磁控反应溅射方法,在Si(100)衬底上沉积c-BN薄膜.研究了溅射气压和沉积时间对薄膜结构的影响.结果表明.随溅射气压的升高或沉积时间的增加,都是削弱荷能粒子对衬底表面的轰击效果,并导致薄膜中c-BN相含量的减小.
宋雪梅1,王玫1,邹云娟1,张德学1,严辉1,黄安平1,王波1
(1.北京工业大学材料科学与工程学院,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022)
摘要:采用磁控反应溅射方法,在Si(100)衬底上沉积c-BN薄膜.研究了溅射气压和沉积时间对薄膜结构的影响.结果表明.随溅射气压的升高或沉积时间的增加,都是削弱荷能粒子对衬底表面的轰击效果,并导致薄膜中c-BN相含量的减小.
关键词:立方氮化硼; 薄膜; 红外光谱;
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