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溅射气压和沉积时间对c-BN薄膜结构的影响

来源期刊：功能材料2002年第1期

论文作者：宋雪梅王玫邹云娟张德学严辉黄安平王波

关键词：立方氮化硼; 薄膜; 红外光谱;

摘要：采用磁控反应溅射方法,在Si(100)衬底上沉积c-BN薄膜.研究了溅射气压和沉积时间对薄膜结构的影响.结果表明.随溅射气压的升高或沉积时间的增加,都是削弱荷能粒子对衬底表面的轰击效果,并导致薄膜中c-BN相含量的减小.

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宋雪梅¹，王玫¹，邹云娟¹，张德学¹，严辉¹，黄安平¹，王波¹

(1.北京工业大学材料科学与工程学院,新型功能材料教育部重点实验室,北京,100022)

摘要:采用磁控反应溅射方法,在Si(100)衬底上沉积c-BN薄膜.研究了溅射气压和沉积时间对薄膜结构的影响.结果表明.随溅射气压的升高或沉积时间的增加,都是削弱荷能粒子对衬底表面的轰击效果,并导致薄膜中c-BN相含量的减小.

关键词:立方氮化硼; 薄膜; 红外光谱;

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