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离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi2薄膜的研究

来源期刊:功能材料2010年第5期

论文作者:张娟 沈鸿烈 鲁林峰 唐正霞 江丰 李斌斌 刘恋慈 沈洲

文章页码:886 - 1779

关键词:β-FeSi2;离子束溅射沉积;Fe/Si多层膜;石英衬底;

摘    要:采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响。结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表面致密均匀,其光学带隙为0.84eV,能量为1.0eV光子的吸收系数>105cm-1。

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离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi2薄膜的研究

张娟,沈鸿烈,鲁林峰,唐正霞,江丰,李斌斌,刘恋慈,沈洲

南京航空航天大学材料科学与技术学院

摘 要:采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响。结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表面致密均匀,其光学带隙为0.84eV,能量为1.0eV光子的吸收系数>105cm-1。

关键词:β-FeSi2;离子束溅射沉积;Fe/Si多层膜;石英衬底;

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