光聚合陶瓷先驱体裂解制备陶瓷涂层及其抗氧化性能
来源期刊：材料保护2010年第3期
论文作者：陈少杰 寇开昌 张教强 苏力宏
关键词：巯基/乙烯基陶瓷先驱体; 炭材料; 抗氧化; 陶瓷涂层; thiol-ene polysilazane ceramic precursor; carbon material; anti-oxidation behavior; ceramic coating;
摘 要：炭材应用广泛,但在高于500℃的有氧气氛中氧化迅速,其结构和性能受到严重影响.为此,采用光聚合巯基/乙烯基聚硅氮烷(PSN-1)陶瓷先驱体在炭材料表面裂解制备抗氧化陶瓷涂层,采用偏光显微镜和X射线衍射技术探讨了涂层对炭材抗氧化性能的影响.结果表明:先驱体溶液浓度为30%时浸渍效果最好;加入质量比(Ti/PSN-1)为1/10～1/5的钛粉时,制备的涂层抗氧化性能最佳,恒温氧化120 min后,失重率仅为18%;最佳的浸渍/裂解循环次数为3次,恒温氧化120 min,失重率为15%;聚硅氮烷经高温裂解后最终生成氮化硅陶瓷.
陈少杰1，寇开昌1，张教强1，苏力宏1
(1.西北工业大学理学院,陕西,西安,710129)
摘要:炭材应用广泛,但在高于500℃的有氧气氛中氧化迅速,其结构和性能受到严重影响.为此,采用光聚合巯基/乙烯基聚硅氮烷(PSN-1)陶瓷先驱体在炭材料表面裂解制备抗氧化陶瓷涂层,采用偏光显微镜和X射线衍射技术探讨了涂层对炭材抗氧化性能的影响.结果表明:先驱体溶液浓度为30%时浸渍效果最好;加入质量比(Ti/PSN-1)为1/10～1/5的钛粉时,制备的涂层抗氧化性能最佳,恒温氧化120 min后,失重率仅为18%;最佳的浸渍/裂解循环次数为3次,恒温氧化120 min,失重率为15%;聚硅氮烷经高温裂解后最终生成氮化硅陶瓷.
关键词:巯基/乙烯基陶瓷先驱体; 炭材料; 抗氧化; 陶瓷涂层; thiol-ene polysilazane ceramic precursor; carbon material; anti-oxidation behavior; ceramic coating;
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