碳靶电流对磁控溅射Cp/AlSn复合镀层显微结构的影响（英文）

来源期刊：稀有金属材料与工程2015年第8期

论文作者：郭巧琴 李建平 郭永春

文章页码：1857 - 1861

关键词：Cp/AlSn镀层;磁控溅射;显微结构;

摘    要：采用非平衡磁控溅射离子镀技术,当碳靶电流在0.2~.0.8 A范围,在Al Zn4.5Mg轴承合金和单晶硅Si(100)表面制备Cp/Al Sn复合镀层。通过X射线衍射(XRD),扫描电子显微镜(SEM)以及X射线光电子能谱(XPS)分别对复合镀层的相组成,微观形貌及化学态进行表征。结果表明:复合镀层为等轴晶结构;其相组成主要为均匀分布的铝、锡和碳3种相;X射线光电子能谱分析表明,在Cp/Al Sn复合镀层中,铝和锡2种元素主要以单质形态存在,碳元素以sp2和sp3 2种杂化形式存在,其中以sp2杂化为主。