磁场强度对磁场-电沉积Ni-TiN镀层的影响

王金东¹，赵岩¹，朱砚葛²，夏法锋¹，高媛媛³，曹阳³

1. 东北石油大学机械科学与工程学院2. 东北石油大学电气信息工程学院3. 中国石油管道大庆输油气分公司

摘 要：采用磁场-电沉积方法在40Cr表面制备Ni-TiN镀层,利用显微硬度计、扫描电镜、EDS能谱仪等仪器研究磁场强度对Ni-TiN镀层的显微硬度、表面形貌、TiN粒子复合量及镀液电流效率的影响。结果表明:当磁场强度为0.9 T时,镀层显微硬度达到最大值,为730HV;TiN粒子复合量的质量分数达到最大值,为3.6%;电流效率达到最小值,为73%。SEM分析表明,当磁场强度为0.5 T时,Ni-TiN镀层的晶粒尺寸较大,表面较粗糙;当磁场强度为0.9 T时,镀层表面较平整,晶粒显著细化。

关键词：磁场-电沉积;显微硬度;电流效率;