PVD Si涂层用于SiC陶瓷的表面改性研究
来源期刊：材料导报2009年第16期
论文作者：谭寿洪 唐惠东
关键词：PVD Si涂层; RB SiC; SSiC; 表面粗糙度均方根RMS; 反射率;
摘 要：为了获得高质量的光学表面,采用RF磁控溅射法在RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆一层结构致密的PVD Si涂层.采用XRD、AFM和表面轮廓仪对抛光后的PVDSi涂层进行了表征,并在可见光波长范围内测量了涂层的反射率.结果表明,当RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆PVD Si涂层后,抛光后其表面缺陷明显减少,表面粗糙度的均方根RMS可达埃级,反射率提升幅度明显.并简单分析了反射率提高的主要原因.
谭寿洪1，唐惠东2
(1.中国科学院上海硅酸盐研究所,上海,200050;
2.常州工程职业技术学院材料工程技术系,常州,213164)
摘要:为了获得高质量的光学表面,采用RF磁控溅射法在RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆一层结构致密的PVD Si涂层.采用XRD、AFM和表面轮廓仪对抛光后的PVDSi涂层进行了表征,并在可见光波长范围内测量了涂层的反射率.结果表明,当RB SiC和SSiC陶瓷表面涂覆PVD Si涂层后,抛光后其表面缺陷明显减少,表面粗糙度的均方根RMS可达埃级,反射率提升幅度明显.并简单分析了反射率提高的主要原因.
关键词:PVD Si涂层; RB SiC; SSiC; 表面粗糙度均方根RMS; 反射率;
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