钨涂层的几种沉积制备技术研究进展
来源期刊：材料保护2018年第3期
论文作者：王占雷 陈长安 朱开贵 杨飞龙 周行
文章页码：93 - 217
关键词：面向等离子体;钨涂层;喷涂;电沉积;
摘 要：难熔金属钨具有高强度、低蒸汽压、无化学腐蚀性等优点,被选为核聚变堆面向等离子体材料。通过各种工艺手段将钨涂覆在基体材料表面,是制作面向等离子体部件的新技术。综述了国内外几种钨涂层的制备工艺,主要包括:气相沉积法、等离子喷涂法以及熔盐电镀,介绍了其各自的优缺点,指出离子液体电沉积技术在室温下就可以完成金属薄膜的制备,值得进一步探索其工程化应用。
王占雷1,2，陈长安1，朱开贵2，杨飞龙1，周行2
1. 表面物理与化学重点实验室2. 北京航空航天大学物理科学与核能工程学院
摘 要：难熔金属钨具有高强度、低蒸汽压、无化学腐蚀性等优点,被选为核聚变堆面向等离子体材料。通过各种工艺手段将钨涂覆在基体材料表面,是制作面向等离子体部件的新技术。综述了国内外几种钨涂层的制备工艺,主要包括:气相沉积法、等离子喷涂法以及熔盐电镀,介绍了其各自的优缺点,指出离子液体电沉积技术在室温下就可以完成金属薄膜的制备,值得进一步探索其工程化应用。
关键词：面向等离子体;钨涂层;喷涂;电沉积;
