磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为
来源期刊：稀有金属材料与工程2008年第2期
论文作者：刘清和 李科学 王庆富 唐凯 王晓红 刘卫华 郎定木
关键词：贫铀; 铌镀层; 磁控溅射离子镀; 电化学腐蚀;
摘 要：利用电化学测试技术、扫描电镜(SEM)及X射线能谱(EDS)对磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为进行了研究.实验结果表明:在50μg/g Cl-的KCl溶液中,铌的腐蚀电位远高于贫铀的腐蚀电位,铌镀层对贫铀是阴极性镀层,对贫铀的保护是基于其对腐蚀介质的物理屏障作用;镀铌贫铀的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀,腐蚀电流远小于贫铀,铌镀层对贫铀具有良好的防腐蚀性能;镀铌贫铀的腐蚀特征为局部腐蚀,并由孔蚀向电偶腐蚀转变.
刘清和1，李科学1，王庆富1，唐凯1，王晓红1，刘卫华1，郎定木1
(1.表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621907)
摘要:利用电化学测试技术、扫描电镜(SEM)及X射线能谱(EDS)对磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为进行了研究.实验结果表明:在50μg/g Cl-的KCl溶液中,铌的腐蚀电位远高于贫铀的腐蚀电位,铌镀层对贫铀是阴极性镀层,对贫铀的保护是基于其对腐蚀介质的物理屏障作用;镀铌贫铀的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀,腐蚀电流远小于贫铀,铌镀层对贫铀具有良好的防腐蚀性能;镀铌贫铀的腐蚀特征为局部腐蚀,并由孔蚀向电偶腐蚀转变.
关键词:贫铀; 铌镀层; 磁控溅射离子镀; 电化学腐蚀;
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