电化学沉积锰修饰TiO₂纳米管阵列的正交试验研究

来源期刊：钢铁钒钛2016年第1期

论文作者：熊中平 司玉军 李敏娇 冯具平

文章页码：51 - 55

关键词：TiO2;纳米管阵列;锰修饰;电化学沉积;光电响应;

摘    要：用阳极氧化法在钛片表面制备空白TiO₂纳米管阵列,用电化学阴极还原法在其表面沉积锰,通过正交试验考察沉积条件对锰修饰TiO₂纳米管阵列光电响应的影响。结果表明,锰的表面修饰可以增强TiO₂纳米管阵列对可见光的响应,在0.5 V（vs.SCE）的偏电压下,光电流显著增大。沉积时间和沉积电压是影响锰沉积的主要因素,锰沉积的最佳条件为:沉积时间30 s、电压-2 V、锰离子浓度10 mmol/L。