NiFe/Cu多层膜的结构与层间耦合效应

来源期刊：磁性材料及器件2015年第5期

论文作者：张咪 王海

文章页码：19 - 85

关键词：NiFe/Cu多层膜;靶表磁场;结构;层间耦合;

摘    要：用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备了[Ni₈₀Fe₂₀/Cu]₂₀多层膜,其中采用了靶表磁场强度不同的靶腔沉积铜层,利用X射线衍射和振动样品磁强计对Cu（100nm）/[Ni₈₀Fe₂₀（0.9nm）/Cu（tCu）]₂₀两个系列样品的结构和磁性进行了表征。靶表磁场较弱时沉积的多层膜具有良好的层间耦合振荡行为,而靶表磁场较强时制备的多层膜没有出现反铁磁耦合。依据上述事实,我们推测靶表磁场强度的不同会影响Ni Fe/Cu界面扩散,进而对多层膜样品的磁性产生影响。用靶表磁场较弱的靶腔沉积中间层铜能够有效减小界面互溶程度,改善镍铁与铜的成层质量。而靶表磁场较强的靶腔溅射出的铜原子具有较高能量,在界面处扩散并与镍铁层互溶,破坏了层状结构。