超导射频腔用铌材的表面化学抛光技术

来源期刊：稀有金属材料与工程2018年第8期

论文作者：陈向林 唐县娥 法涛 邹东利 白彬 蒙大桥

文章页码：2472 - 2476

关键词：超导铌腔;化学抛光;表面状态;

摘    要：通过分析化学抛光过程中铌材的抛光速率、表面形貌和氧化状态等参数,确定了超导腔用铌材的表面化学抛光工艺:混合酸（HNO₃:HF:H₃PO₄=1:1:2,体积比）为适合的抛光试剂,抛光速率方程为h=29.359t 0.9247,抛光6¹5 min可移除厚度154³60μm,表面粗糙度Ra小于0.65μm,表面Nb₂O₅层厚度小于10 nm。同时,利用电子背散射衍射技术（EBSD）结合表面形貌讨论了化学抛光机制,发现机加纹路消除后继续延长抛光时间,晶粒内高指数晶面（原子疏排面）会被优先抛光,从而在晶界处形成较深的沟槽,在晶粒内出现尖锐突起。