激光晶化非晶硅薄膜的表面机理研究

来源期刊：功能材料与器件学报2010年第6期

论文作者：陈盛 史伟民 金晶 秦娟 王漪 夏义本

文章页码：565 - 569

关键词：等离子体化学气相沉积;激光晶化;纳米硅;

摘    要：采用PECVD工艺在普通玻璃衬底上制备非晶硅薄膜,用波长为532nm的倍频Nd:YAG激光对非晶硅薄膜的表层进行了晶化。研究了激光能量密度对非晶硅薄膜表面结晶度以及晶粒大小的影响,并对晶化后的非晶硅表面形貌进行了表征。研究结果表明:该非晶硅薄膜晶化的阈值能量密度为800 mJ/cm~2,当激光能量密度大于该值时,晶化效果反而变差。同时经过拉曼光谱表征,经由高斯拟合和数值计算得出薄膜结晶度在45%～60%之间,平均晶粒尺寸在30～50nm。