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微波烧结、真空压力浸渗制备SiCp/Al电子封装材料

来源期刊:材料科学与工艺2012年第1期

论文作者:胡盛青 万绍平 刘韵妍 舒阳会 谭春林

文章页码:78 - 82

关键词:微波烧结;真空压力浸渗;SiCp/Al;

摘    要:选用W10与W63两种SiC粉末,采用高、低温粘结剂配合,模压成型,750℃微波烧结,制备出体积分数为70.28%的SiC预制件,真空压力浸渗6063Al合金熔液,得到SiCp/Al复合材料.结果表明:复合材料XRD图谱中未出现明显的Al4C3界面相和SiO2杂相;致密度高;100℃时的热膨胀系数为7.239×10-6K-1;常温下热导率为160.42/W(m.K)-1;4mm×3mm×30mm规格样品的最大弯曲载荷为282N,弯曲位移为0.29mm左右;综合性能优良,是优异的电子封装材料.

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微波烧结、真空压力浸渗制备SiCp/Al电子封装材料

胡盛青1,万绍平1,刘韵妍2,舒阳会1,谭春林1

1. 湖南航天高新材料与装备技术研发中心2. 湖南航天诚远精密机械有限公司

摘 要:选用W10与W63两种SiC粉末,采用高、低温粘结剂配合,模压成型,750℃微波烧结,制备出体积分数为70.28%的SiC预制件,真空压力浸渗6063Al合金熔液,得到SiCp/Al复合材料.结果表明:复合材料XRD图谱中未出现明显的Al4C3界面相和SiO2杂相;致密度高;100℃时的热膨胀系数为7.239×10-6K-1;常温下热导率为160.42/W(m.K)-1;4mm×3mm×30mm规格样品的最大弯曲载荷为282N,弯曲位移为0.29mm左右;综合性能优良,是优异的电子封装材料.

关键词:微波烧结;真空压力浸渗;SiCp/Al;

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