同步辐射的基本知识 第五讲 同步辐射中的成像术及其应用(二)
来源期刊：理化检验物理分册2009年第10期
论文作者：杨传铮 程国峰 黄月鸿
文章页码：655 - 660
摘 要：<正>4.3衍衬成像术的应用4.3.1缺陷应变矢量的测定缺陷周围的应变场总是各向异性的,e-i2πg·R是因缺陷引入的附加相位因子。当衍射矢量与缺陷应变场的最大应变矢量平行时,衍射衬度最大,垂直时无衬度或消象。因此,可以通过改变衍射矢量的方
杨传铮1，程国峰2，黄月鸿2
1. 中国科学院上海微系统与信息技术研究所2. 中国科学院上海硅酸盐研究所
摘 要：<正>4.3衍衬成像术的应用4.3.1缺陷应变矢量的测定缺陷周围的应变场总是各向异性的,e-i2πg·R是因缺陷引入的附加相位因子。当衍射矢量与缺陷应变场的最大应变矢量平行时,衍射衬度最大,垂直时无衬度或消象。因此,可以通过改变衍射矢量的方
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