镁合金表面微弧氧化放电现象及氧化膜特性分析

来源期刊：稀有金属材料与工程2015年第4期

论文作者：车广东 刘向东 刘景顺 吕凯

文章页码：897 - 900

关键词：镁合金;微弧氧化;放电现象;膜层性能;

摘    要：为研究AZ91D表面微弧氧化过程中的放电现象及膜层特性,采用高速摄像机记录微弧氧化试样表面在Na2Si O3-Na OH电解液体系下放电过程的瞬间图像。用扫描电子显微镜（SEM）对微弧氧化膜层截面形貌和表面形貌进行观察,利用X射线衍射仪（XRD）分析膜层的相组成。结果表明:AZ91D合金在微弧氧化稳定阶段,放电过程呈周期性变化规律。AZ91D合金微弧氧化膜层由致密层与疏松层构成,靠近基体一侧为致密层,膜层外侧为疏松层,在疏松层表面存在微孔和裂纹缺陷,膜层最大厚度约为169μm。陶瓷膜层主要由Mg O和Mg2Si O4相组成,且以Mg O相为主。