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四配位非晶碳薄膜的研究进展

来源期刊:新型炭材料2000年第4期

论文作者:周友国 魏爱香

关键词:四配位非晶碳薄膜; 制备方法; 形成机理; 结构和性能; 应用前景;

摘    要:四配位非晶碳薄膜是近年来发展的一种新型宽带隙半导体材料,具有独特的物理和化学特性.本文对四配位非晶碳薄膜的研究意义,制备方法,形成机理,结构和性能表征及应用前景作较全面的介绍.

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四配位非晶碳薄膜的研究进展

周友国1,魏爱香1

(1.海军广州舰艇学院,广东,广州,510431)

摘要:四配位非晶碳薄膜是近年来发展的一种新型宽带隙半导体材料,具有独特的物理和化学特性.本文对四配位非晶碳薄膜的研究意义,制备方法,形成机理,结构和性能表征及应用前景作较全面的介绍.

关键词:四配位非晶碳薄膜; 制备方法; 形成机理; 结构和性能; 应用前景;

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