AlN电子薄膜材料的研究进展
来源期刊:材料导报2007年第5期
论文作者:石之杰 周继承
关键词:AlN电子薄膜材料; 电子元器件; 应用; 进展;
摘 要:AlN是一种在热、电、光和机械等方面具有良好综合性能的材料,作为电子薄膜材料在微电子、电子元件、高频宽带通信以及功率半导体器件等领域有广泛应用.简介了AlN薄膜的制备方法,评述了国内外各科研团体的最新研究成果和进展,阐述了AlN薄膜的应用,并综述了近年来AlN薄膜作为缓冲层、SOI结构的绝缘埋层和吉赫兹级声表面渡器件压电薄膜的研究现状.
石之杰1,周继承1
(1.中南大学物理科学与技术学院,长沙,410083)
摘要:AlN是一种在热、电、光和机械等方面具有良好综合性能的材料,作为电子薄膜材料在微电子、电子元件、高频宽带通信以及功率半导体器件等领域有广泛应用.简介了AlN薄膜的制备方法,评述了国内外各科研团体的最新研究成果和进展,阐述了AlN薄膜的应用,并综述了近年来AlN薄膜作为缓冲层、SOI结构的绝缘埋层和吉赫兹级声表面渡器件压电薄膜的研究现状.
关键词:AlN电子薄膜材料; 电子元器件; 应用; 进展;
【全文内容正在添加中】