乙烯掺杂APCVD法沉积非晶硅薄膜的光学特性
来源期刊：材料科学与工程学报2005年第6期
论文作者：韩高荣 朱建强 宋晨路 刘涌 詹宝华
关键词：APCVD; 非晶硅薄膜; 红外光谱; 紫外-可见光光谱; 光学带隙;
摘 要：通过硅烷、乙烯和氮气的混合气体在620下采用常压化学气相沉积(APCVD)法沉积了非晶硅薄膜,讨论了乙烯/硅烷的体积比(R=VC2H4/VsiH4)对薄膜的光学性质的影响.用Raman光谱、红外光谱和紫外-可见光光谱仪对薄膜进行表征.结果表明通过乙烯掺杂制备的薄膜样品中存在着Si-C键,在R值变化的开始阶段薄膜的光学带隙随着R值增大而增大,在R=0.1时达到最大值,然后随着R值的增大而减小.
韩高荣1，朱建强1，宋晨路1，刘涌1，詹宝华1
(1.浙江大学材料科学与工程系,浙江,杭州,310027)
摘要:通过硅烷、乙烯和氮气的混合气体在620下采用常压化学气相沉积(APCVD)法沉积了非晶硅薄膜,讨论了乙烯/硅烷的体积比(R=VC2H4/VsiH4)对薄膜的光学性质的影响.用Raman光谱、红外光谱和紫外-可见光光谱仪对薄膜进行表征.结果表明通过乙烯掺杂制备的薄膜样品中存在着Si-C键,在R值变化的开始阶段薄膜的光学带隙随着R值增大而增大,在R=0.1时达到最大值,然后随着R值的增大而减小.
关键词:APCVD; 非晶硅薄膜; 红外光谱; 紫外-可见光光谱; 光学带隙;
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