Ni-Al-V合金中异相界面成分及其演化的微观相场模拟

来源期刊：稀有金属材料与工程2012年第8期

论文作者：张明义 杨坤 陈铮 王永欣 范晓丽

文章页码：1376 - 1380

关键词：微观相场;Ni-Al-V合金;有序无序界面;成分偏聚;成分演化;

摘    要：基于微观相场模型模拟Ni-Al-V合金沉淀过程,研究合金中有序无序界面和异相间有序畴界的成分及其演化。研究表明,合金元素的偏聚和贫化与界面类型有关。在DO22相与无序相间的有序无序界面处,Ni和Al偏聚,V贫化;在L12相与无序相间的有序无序界面处,Ni和Al贫化,V偏聚;在异相间有序畴界处,V在界面的DO22相一侧贫化,在界面的L12相一侧偏聚;Al则在界面的DO22相一侧偏聚,在界面的L12相一侧贫化。Ni的成分分布与界面的形成方式有关。随着时间的进行,界面处合金元素的成分分布变得更加明锐,但合金元素的偏聚和贫化倾向不变。