镉离子印迹硅胶材料的制备、表征及其吸附性能研究

来源期刊：功能材料2013年第6期

论文作者：郭萌萌 章东升 范雪蕾 阎峰

文章页码：800 - 804

关键词：镉;二乙烯三胺基丙基三甲氧基硅烷;离子印迹;

摘    要：采用表面接枝印迹技术,以Cd2+作为模板离子,二乙烯三胺基丙基三甲氧基硅烷为功能分子,硅胶为支撑物,环氧氯丙烷为交联剂,在硅胶表面制备了一种新型的Cd2+离子印迹硅胶材料,并利用平衡吸附法研究了印迹材料的吸附性能和选择识别能力。结果表明,最大吸附量为30.8mg/g,20min即可达到吸附平衡;当pH值在4～8范围内,印迹材料保持了较好的吸附容量;印迹材料对Cd2+离子具有较强的选择性识别能力,重复使用性能稳定。