聚酰亚胺/纳米碳化硅复合薄膜的制备及性能研究
来源期刊：绝缘材料2007年第2期
论文作者：王铎
关键词：聚酰亚胺; 纳米碳化硅; 复合薄膜; 低介电常数;
摘 要：以均苯四甲酸二酐、4,4'-二氨基二苯醚、N,N'-二甲基乙酰胺为原料,经化学合成反应制备了聚酰亚胺/纳米碳化硅复合薄膜.采用红外光谱(FTIR)、透射电子显微镜(TEM)、阻抗分析仪等手段表征了材料的结构及介电性能.结果表明,该复合薄膜的介电常数比纯聚酰亚胺和碳化硅均显著降低,吸水率下降.这种材料有望替代聚酰亚胺/二氧化硅复合材料,作为低介电常数的微电子介质材料.
王铎1
(1.陕西理工学院化学学院,陕西,汉中,723001)
摘要:以均苯四甲酸二酐、4,4''-二氨基二苯醚、N,N''-二甲基乙酰胺为原料,经化学合成反应制备了聚酰亚胺/纳米碳化硅复合薄膜.采用红外光谱(FTIR)、透射电子显微镜(TEM)、阻抗分析仪等手段表征了材料的结构及介电性能.结果表明,该复合薄膜的介电常数比纯聚酰亚胺和碳化硅均显著降低,吸水率下降.这种材料有望替代聚酰亚胺/二氧化硅复合材料,作为低介电常数的微电子介质材料.
关键词:聚酰亚胺; 纳米碳化硅; 复合薄膜; 低介电常数;
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