CeO2掺杂TiO2催化剂薄膜的制备与表征
来源期刊:材料工程2003年第11期
论文作者:张俊英 王金良 郝维昌 潘锋 郑树凯 王天民
关键词:TiO2薄膜; CeO2掺杂; 共溅射;
摘 要:以Ar为工作气体,O2为反应气体,利用射频磁控溅射技术成功地在载玻片上沉积了透明TiO2催化剂薄膜.同时利用共溅射技术制备了掺杂CeO2的TiO2催化剂薄膜.采用X射线衍射(XRD)、Raman光谱、UV-VIS-NIR分光光度计、原子力显微镜(AFM)对薄膜进行了结构和形貌表征.
张俊英1,王金良1,郝维昌1,潘锋1,郑树凯1,王天民1
(1.北京航空航天大学材料物理与化学研究中心,北京,100083)
摘要:以Ar为工作气体,O2为反应气体,利用射频磁控溅射技术成功地在载玻片上沉积了透明TiO2催化剂薄膜.同时利用共溅射技术制备了掺杂CeO2的TiO2催化剂薄膜.采用X射线衍射(XRD)、Raman光谱、UV-VIS-NIR分光光度计、原子力显微镜(AFM)对薄膜进行了结构和形貌表征.
关键词:TiO2薄膜; CeO2掺杂; 共溅射;
【全文内容正在添加中】