化学氧化沉淀法处理电镀及有机废水
来源期刊：材料保护2002年第4期
论文作者：唐基禄 李迅 龚友夫
关键词：CODCr; 铬; 氰废水治理; 工艺;
摘 要： 1 概述某电子厂在从事手机、电话机的液晶显示器生产过程中显影,脱膜清洗时,产生高浓度有机废水和电镀生产中产生的含氰、含铬及酸碱废水.采用有机溶剂去油,含有大量CODCr.厂方提供的混合废水总量为200 m3/d,废水的水质CODCr≥10 000 mg/L,总铬量20～50 mg/L,氰根量50～100 mg/L,悬浮物300～800 mg/L,pH值为6～10,石油类30～80 mg/L,各项指标均超过国家排放标准,严重污染环境.
唐基禄1，李迅1，龚友夫2
(1.深圳华磊实业有限公司,广东,松岗,518105;
2.深圳市环保局,广东,深圳,518026)
摘要: 1 概述某电子厂在从事手机、电话机的液晶显示器生产过程中显影,脱膜清洗时,产生高浓度有机废水和电镀生产中产生的含氰、含铬及酸碱废水.采用有机溶剂去油,含有大量CODCr.厂方提供的混合废水总量为200 m3/d,废水的水质CODCr≥10 000 mg/L,总铬量20～50 mg/L,氰根量50～100 mg/L,悬浮物300～800 mg/L,pH值为6～10,石油类30～80 mg/L,各项指标均超过国家排放标准,严重污染环境.
关键词:CODCr; 铬; 氰废水治理; 工艺;
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