电化学刻蚀对钛基IrO₂-Ta₂O₅电极性能的影响

来源期刊：钛工业进展2017年第3期

论文作者：张苓 冯庆 蔡继东 张玉萍 贺斌

文章页码：37 - 39

关键词：钛基IrO2-Ta2O5电极;电化学刻蚀;表面预处理;强化寿命;析氧电位;

摘    要：采用电化学刻蚀处理钛基材,再通过涂覆、烧结的方法制备出钛基IrO₂-Ta₂O₅电极。与喷砂处理相比,经电化学刻蚀处理后,钛基材表面的凹坑分布更均匀,涂覆涂层后的钛基IrO₂-Ta₂O₅电极的表面凹坑深浅均匀,呈规则分布。强化寿命测试结果表明,经电化学刻蚀处理后制备的钛电极强化寿命平均值达到20 d,比喷砂处理后制备的电极寿命（16 d）显著提高20%;电化学刻蚀处理后制成的钛电极析氧电位为1.62¹.73 V,明显低于喷砂后制备的钛电极（1.92 V）,电解时可降低电耗。