低稀释比玻璃熔片X射线荧光光谱法分析高纯硅石中主次成分

来源期刊：耐火材料2011年第4期

论文作者：宋霞 杨双花 翟智卫

文章页码：318 - 320

关键词：低稀释比;玻璃熔片法;X射线荧光光谱法;高纯硅石;系列标准样品;

摘    要：用市售硅石、硅砖国家标准物质和SiO2基准试剂配制出一系列适当含量范围的标准样品,采用低稀释比玻璃熔片法,研究了高纯硅石中主次成分的X射线荧光光谱分析方法,并且对熔剂种类、稀释比、熔样条件进行了系统研究。国家硅石标准物质的测定值与标准值相一致,应用于实际样品的测定并和化学法比较,分析结果也基本一致。该方法操作简单、快速,结果准确,精密度好,具有良好的实用性。